作為和记娱乐官网app第一代電介質刻蝕產品，Primo DRIE ® 是12英寸雙反應臺多反應腔主機系統，可靈活裝置多達三個雙反應臺反應腔（六個反應臺）。 每個反應腔都可以同時加工兩片晶圓。 該設備運用了和记娱乐官网app具有自主知識產權的創新技術，包括甚高頻和低頻混合射頻去耦合反應电浆源、电浆隔離環、以及用於控制腔體內反應環境的先進工藝組件。 Primo DRIE刻蝕設備可用於加工包括氧化矽、氮化矽及低介電係數膜層等所有的電介質資料。 Primo DRIE於2007年發佈之後，由於其較低的生產成本、較高的生產效率和優异的晶片加工效能，已在國際主流晶片生產線上投入量產。
為65到16納米晶片製造提供創新的刻蝕解決方案
雙反應臺腔體設計具有更高的產出效率
雙反應臺獨立射頻系統和刻蝕終端控制系統
擁有自主知識產權的射頻匹配系統
擁有自主知識產權的电浆隔離科技
高生產效率，低生產成本（CoO）
設備占地面積小
一體綜合的除膠能力及表面電荷减除能力（Primo
