Primo iDEA ® (即“雙反應臺刻蝕除膠一體機”)源於和记娱乐官网app的一個新理念,即:將一個或兩個雙反應臺D-RIE或AD-RIE工藝模塊、和一個遠程电浆源除膠器(DsA)反應腔綜合在同一個平臺上。 和记娱乐官网app的遠程电浆源除膠器採用了雙反應臺腔體設計,頂置的遠程电浆源(RPS)產生的活性反應物質,被均勻地輸送到晶圓表面以移除光刻膠。 這種方法能够提高光刻膠移除效率,並降低电浆直接接觸晶圓的機會。 這對於一些客戶來說尤為重要,其晶片器件對表面電荷極其敏感,存在电浆誘發損傷(PID)的潛在風險。 為了解决這方面的顧慮,客戶通常要付出巨大的人力和物力修改綜合方案,或者為每個步驟(例如光刻膠移除)添置專用設備。 擁有Primo iDEA綜合系統後,客戶可以在同一個平臺上靈活地進行晶片刻蝕和光刻膠移除,顯著减少設備占地面積,提高生產效率。 Primo iDEA提供了具有成本優勢的解決方案。
為晶片刻蝕和光刻膠移除提供創新的綜合解決方案
遠程电浆源
高效率除膠
高效離子隔濾,以避免對器件造成电浆誘發損傷
雙反應臺刻蝕與除膠綜合一體機,顯著减小占地面積
使用Primo iDEA ® 系統設計以代替單獨的刻蝕和除膠系統,節省成本20